
Плосковыпуклая линза обладает положительным фокусным расстоянием: одна сторона линзы плоская, другая — выпуклая. При практическом использовании рекомендуется располагать выпуклую поверхность в сторону падающего света, что позволяет оптимизировать оптический путь; линза эффективно применяется для наведения и юстировки монохроматического источника света и фокусировки пучка.
Плосковыпуклая линза обладает положительным фокусным расстоянием: одна сторона линзы плоская, другая — выпуклая. При практическом использовании рекомендуется располагать выпуклую поверхность в сторону падающего света, что позволяет оптимизировать оптический путь; линза эффективно применяется для наведения и юстировки монохроматического источника света и фокусировки пучка.
Наша компания предлагает стандартные плосковыпуклые линзы со склада: как базовые без покрытия, так и с двусторонним широкополосным просветляющим покрытием. Линзы без покрытия удовлетворяют базовым требованиям к пропусканию света и подходят для простых оптических экспериментов; линзы с двусторонним широкополосным просветляющим покрытием позволяют эффективно снизить потери на отражение от оптических поверхностей, повысить светопропускание, уменьшить влияние паразитного света и обеспечить более высокое качество изображения.
Продукция отличается стабильной точностью формы оптической поверхности и широким ассортиментом; она может широко применяться в оптических приборах, оборудовании для оптической связи, проекционных системах, оптическом контроле и других областях. Опираясь на зрелые возможности оптической обработки, мы не только поставляем стандартную продукцию со склада, но и по требованиям проекта заказчика предлагаем услуги по изготовлению оптических компонентов на заказ, обеспечивая надёжную компонентную поддержку для различных решений по интеграции оптоэлектронных систем.
| Материал | Прецизионно отожжённое оптическое стекло H-K9L |
| Расчётная длина волны | 587,6 нм |
| Погрешность диаметра | +0,0/−0,1 мм |
| Погрешность центральной толщины | +0,2 мм |
| Нерегулярность формы поверхности | λ/4 при 632,8 нм |
| Погрешность фокусного расстояния (EFL) | +2 % |
| Погрешность центрирования линзы | 3 угл. мин. |
| Класс чистоты поверхности | 40/20–60/40 |
| Фаска | 0,2 мм × 45° |
| Покрытие | См. список продукции |