
Определение минимального угла отклонения показано на рисунке справа: когда α = β, преломлённый луч внутри призмы параллелен основанию, а отклонение падающего и выходящего лучей минимально. Формула на рисунке выше применима только к материалам с показателем преломления меньше 2.
Определение минимального угла отклонения показано на рисунке справа: когда α = β, преломлённый луч внутри призмы параллелен основанию, а отклонение падающего и выходящего лучей минимально. Формула на рисунке выше применима только к материалам с показателем преломления меньше 2.
Для материалов с показателем преломления больше 2, например ZnSe, из-за большого показателя преломления свет в состоянии, показанном на рисунке ниже, испытывает полное внутреннее отражение на выходной поверхности, и свет будет выходить через основание, поэтому призмы из ZnSe требуют полировки трёх поверхностей.
| Материал | См. список продукции | Фаска | <0,25 мм × 45° |
| Погрешность размера | +0,1 мм | Световая апертура | 70 % |
| Основание (смежное с двумя базовыми поверхностями) | Полировка для контроля | Класс чистоты поверхности | 40/20 |
| Остальные поверхности | Тонкое шлифование |
| Угол между полированными поверхностями | 60° +3' (материалы F4, H-F4 и H-ZF13, CaF2); 60° +10' (призма ZnSe) |
| Нерегулярность формы полированных поверхностей | λ/10 при 632,8 нм (материалы F4, H-F4 и H-ZF13) λ/8 при 632,8 нм (материал CaF2) λ/2 при 632,8 нм (материал ZnSe) |
| Класс чистоты полированных поверхностей | 40-20 (материалы F4, H-F4 и H-ZF13); 60-40 (материалы CaF2, ZnSe) |
| Минимальный угол отклонения (y) | 47,9° при 633 нм (материалы F4 и H-F4); 65,5° при 633 нм (материал H-ZF13) 31,6° при 633 нм (материал CaF2) |